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TECHCET:先进制程需求拉动,前驱体市场规模稳步增长

分类:市场动态 | 时间:2022-10-27 11:01 | 阅读:418

摘要: 研究机构TECHCET日前预测,用于ALD/CVD工艺的前驱体材料市场规模将在2022年达到8.35亿美元,较2021年增长近13%。
研究机构TECHCET日前预测,用于ALD/CVD工艺的前驱体材料市场规模将在2022年达到8.35亿美元,较2021年增长近13%。

该机构还预计,尽管2023年受外部环境影响市场增速将略有放缓,但随着先进制程逻辑、存储器件需求持续释放,市场仍将维持长期增长韧性,铪 (HfO2) 将继续作为逻辑器件栅极高K材料,钨 (WF6) 的增长则来自3D NAND垂直堆叠驱动,钴前驱体消费的驱动因素是20纳米以下逻辑节点的增长高于旧节点,以及在附加金属化层中的使用。


TECHCET总裁/首席执行官Lita Shon-Roy表示,“总体而言,由于铪、钴和钨前驱体的强劲增长预期,该前驱体细分市场2021年至2026年的复合年增长率将接近9%。虽然我们看到一些来自俄罗斯的钴前体供应中断,但这不会影响到2026年预计将达到11亿美元的整体市场”。

该机构还指出,设备商正积极寻找更具性价比的解决方案,将进一步增加CVD特别是ALD工艺材料的应用,改进器件的未来技术将促进新前体开发,围绕ALD沉积的新材料,有许多挑战需要解决。薄膜均匀性、沉积覆盖率和完整性都是满足可制造性和产量要求的必要条件。高选择性沉积在过去5年中正越来越受关注。
来自: 互联网
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