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世界上最高分辨率的光刻系统来了,可制造0.7纳米芯片

分类:新技术 | 时间:2022-9-27 11:48 | 阅读:213

摘要: 美国原子级精密制造工具的纳米技术公司Zyvex Labs发布公告,已推出世界上最高分辨率的光刻系统“ZyvexLitho1“,其使用电子束光刻技术,实现了768皮米(即0.768纳米)的原子级精密图案和亚纳米级分辨率。 ...
9月21日,美国原子级精密制造工具的纳米技术公司Zyvex Labs发布公告,已推出世界上最高分辨率的光刻系统“ZyvexLitho1“,其使用电子束光刻技术,实现了768皮米(即0.768纳米)的原子级精密图案和亚纳米级分辨率。Zyvex Labs已经开始接受ZvyvexLitho1系统的订单,交货期约为6个月。

EUV光刻机是当前先进制程的必备设备。荷兰阿斯麦(ASML)作为全球第一大光刻机设备商,同时也是全球唯一可提供EUV光刻机的设备商。在市调机构CINNO Research发布的2022年上半年全球上市公司半导体设备业务营收排名Top10报告中排名第二。


Zyvex Labs此次推出的ZyvexLitho1光刻系统,基于STM扫描隧道显微镜,使用的是EBL电子束光刻方式,可以制造出了0.7纳米线宽的芯片,相当于2个硅原子的宽度,是当前制造精度最高的光刻系统。

据悉,ZyvexLitho1光刻系统ZyvexLitho1的高精度光刻可以用于实验室阶段高端制程工艺的产品研发,是传统芯片制造所需光刻机的一个应用补充,主要可用于制造对于精度有较高要求的量子计算机的相关芯片,例如高精度的固态量子器件以及纳米器件及材料,对半导体产业的发展也具有巨大的促进作用。目前,Zyvex Labs已经开始接受订单,6个月内就可出货。

对于这个新型光刻系统是否会威胁到EUV光刻的统治地位,赛迪顾问集成电路产业研究中心一级咨询专家池宪念表示:“短期内并不会“,他指出ZyvexLitho1是一种使用电子束曝光作为光刻方式的设备,与传统光刻机工作原理会有明显的差异。它是通过电子束改变光刻胶的溶解度,最后选择性地去除曝光或未曝光区域。它的优势在于可以绘制10纳米以下分辨率的自定义图案,是属于无掩模光刻直接写入的工作方式,精度远高于目前的传统光刻机。但是由于这类型设备的单个产品光刻的工作时间要在几小时到十几小时不等,工作效率方面还需进一步提高,因此不会快速取代EUV光刻机。

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来自: 中国电子报、电子信息产业网
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