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铠侠谈3D NAND闪存技术的未来

分类:新产品 | 时间:2021-9-29 15:08 | 阅读:648

摘要: 据中国闪存市场ChinaFlashMarket预估,2020年全球NAND Flash市场销售规模超过550亿美元,较2019年增长21%,全球NAND Flash GB当量更达到4000亿GB当量,年增幅31%。
熟悉存储行业的读者应该知道,东芝公司的舛冈富士雄在1987年发明了NAND闪存。而后,这种存储产品便在市场上蓬勃发展,到了智能手机时代,NAND Flash更是大放异彩。

据中国闪存市场ChinaFlashMarket预估,2020年全球NAND Flash市场销售规模超过550亿美元,较2019年增长21%,全球NAND Flash GB当量更达到4000亿GB当量,年增幅31%。当中很大一部分是由智能手机所贡献的。


不过进入最近几年,因为智能手机波动比较大,很多人对NAND Flash的未来产生了疑问,但在由东芝存储业务更名后成立的铠侠看来,NAND Flash市场还是前景看好。

一方面,虽然智能手机短期走弱是不争的事实,但从长期看来,在5G的推动下,智能手机的闪存需求量还将继续增长;另一方面,疫情的出现改变了人们工作生活的方式,加上当前的科技发展浪潮,数据中心的需求必将水涨船高,这势必会带动闪存的需求;第三,随着汽车往更高级别的自动驾驶演进,自不然会有更高容量的闪存需求。

这也是铠侠看好的三大存储机遇。作为行业领先的专家,他们已经在产能和技术方面做好了全方位的规划。

从技术方面看,这是铠侠赖以生存的根本。只要拥有了这些技术,铠侠才有面向未来的底气。而要谈铠侠的闪存技术,BiCS是必然不能错过的,因为这是铠侠一切闪存技术的基础。

官方资料显示,这是他们在2007年推出的3D闪存技术。而到了今年五月,则升级到了第六代。据介绍,这是一个162层的3D闪存技术。是他们迄今为止密度最高、最先进的3D闪存技术,采用了广泛的技术和制造创新。

这款第六代3D闪存具有超越传统八列存储孔阵列的先进架构,与第五代技术相比,平面单元阵列密度最多提高了10%。这种平面方向上的细微化技术进步与162层垂直堆叠相结合,裸片尺寸与112层堆叠技术相比减少40%,从而优化了成本。

铠侠和西部数据团队还应用了Circuit Under Array CMOS配置和4Plane操作,与上一代相比,这两项技术在写性能方面提高了近2.4倍,在读取延迟方面缩短了10%。此外,I/O性能也提高了66%,使下一代接口能够支持不断增长的对更快传输速率的需求。

总体而言,与上一代相比,新的3D闪存技术降低了每比特成本,并且将每片晶圆可制造的比特数提高了70%。铠侠和西部数据将继续推动创新,确保持续细微化以满足客户及其多样化应用的需求。

从铠侠BiCS,或者三星、美光还是英特尔的3D闪存的发展看来,现在厂商都已经在追求更高的层数,从垂直方向发展闪存。但正如铠侠方面所说,虽然有行业专家指出3D闪存可以堆叠到1000层,但他们随着堆叠层数的增加,制造闪存的成本和时间会提升。为此他们也开始探索往横向发展3D闪存。

铠侠株式会社技术执行官柳茂知在闪存峰会的演讲上也表示:“部分人可能认为堆叠层数是3D NAND容量增长的最重要参数,但是其实并不完全正确,没有必要以厚度增加为代价一味增加堆叠层数。”他进一步指出,铠侠也十分注重平面密度提升。“一直到BiCS 5闪存芯片,铠侠都是采用CNA结构,即CMOS电路布置在存储阵列旁边,因为这种结构可以最大程度缩短生产时间,优化晶圆厂产出。”柳茂知强调。

但来到BiCS6 162层闪存芯片中,铠侠开始采用CMOS电路配置在存储阵列下方的CUA结构。据了解,这种设计的芯片厚度会大于CAN结构,但铠侠表示,从单片晶圆中产出的芯片数量的增加可以弥补生产时间变长的影响。面向未来铠侠后续还将引入CBA结构,即CMOS/存储阵列键合,存储阵列和周边电路会分别生产。最终,将两片晶圆键合在一起以形成一个存储器芯片。

除此以外,PLC和Twin BiCS也是铠侠提升平面存储密度的重要途径。

所谓PLC,是penta level cell的简称,这是一种存储5电位的设计。但铠侠并不满足于此,在之前的学术会议上,铠侠还谈到了存储6电位的HLC(hexa level cell)和存储8电位的OLC(octa level cell)。

至于Twin BiCS,则是铠侠在2019年推出一个闪存新技术。据介绍,这是全球首个3D半圆形分裂浮栅极闪存单元。其使用的技术主要有半圆形、分裂、浮栅极,简单来说就是将传统的浮栅极分裂为两个对称的半圆形栅极,利用曲率效应提高闪存P/E编程/擦除过程中的性能。

在学术会议上,铠侠还谈到过一个叫做晶圆级SSD的设想,希望能够用生产出来的整个晶圆当做SSD硬盘用。

但我们必须强调一下,铠侠上述的设想都是他们对于技术未来的设想,现在只是处于最初始的阶段。但透过这些“异想天开”,我们看到了闪存的无限可能。

基于上述闪存技术和产品,铠侠打造了面向智能手机和数据中心等市场的丰富产品线。例如面向智能手机有UFS系列产品;面向企业级应用有SAS SSD、PCIE Gen 4 SSD、EDSFF E3S和E1S SSD和低延迟SSD。铠侠还将推出今年第四季度推出支持PCIe Gen5及EDSEF E3.S接口的企业级SSD—CD7系列;面向汽车市场,除了规划了UFS产品以外,铠侠方面表示,为了满足汽车更高的容量需求,公司正在与合作伙伴探讨SSD在汽车上的应用。

有了领先的产品固然重要,但是否有适当的产能规划则是存储企业能够腾飞的关键。而他们也的确面向现在的市场现状和趋势做好了充分的准备。

根据闪存市场ChinaFlashMarket数据,今年上半年,铠侠约占全球NAND Flash市场份额19%,排名第二。从铠侠技术执行官柳茂知早前在闪存峰会上的介绍我们得知,这些闪存芯片大多数是在日本四日市(Fab N-Y2, Y3, Y4, Y5, Y6五栋无尘厂房)和岩手县北上市(K1)生产的。

纵观全球闪存厂商的规划,无不在大力投资扩产,铠侠自然也不甘人后。

据《日刊工业新闻》在今年五月披露,铠侠预计将投资高达约2兆日圆(约183.7亿美元)来提高3D NAND的产能。当中包括在岩手县北上市新建K2工厂,估计其规模可能将是K1厂房的2倍,计划2023年开始营运。此外,铠侠在日本四日市也正在新建Fab7工厂,该工厂的建设分为两个阶段,第一阶段的建设计划于2022年春季完成,用于生产先进的BiCS FLASH。

正如铠侠所说,存储是一个有周期性的产品。但从现状看来,他们似乎已经运筹帷幄。

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来自: 半导体行业观察
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